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- 凈化工程是指控制產(chǎn)品（如硅芯片等）所接觸大氣的潔凈度及溫濕度，使產(chǎn)品能在一個良好的環(huán)境空間中生產(chǎn)、制造，此環(huán)境空間的設(shè)計施工過程即可稱為凈化工程。
- 原理
  - 亂流潔凈室：從來流到出流之間氣流的流通截面是變化的，氣流在室內(nèi)不可能以單一方向流動，將會彼此撞擊，有回流、旋渦產(chǎn)生，流態(tài)實質(zhì)是突變流、非均勻流，主要靠空氣的稀釋作用來減輕室內(nèi)污染的程度。
  - 單向流潔凈室：一般有水平流和垂直流兩種類型。氣流以一個方向流動，并以一般是 0.3 米 / 秒至 0.5 米 / 秒的均速流過整個空間，由滿布潔凈室吊頂?shù)母咝н^濾器向室內(nèi)送風(fēng)，像一個空氣活塞向下流經(jīng)室內(nèi)，帶走污染物，然后從地面排出。
控制要求1
- 溫濕度控制：潔凈空間的溫濕度主要根據(jù)工藝要求確定，同時考慮人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求提高，工藝對溫濕度要求也越來越嚴，例如大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝，對溫度波動范圍要求極小，硅片生產(chǎn)最佳濕度范圍一般為 35%-45%。
- 氣壓規(guī)定：為防止外界污染侵入，大部分潔凈空間需保持內(nèi)部壓力（靜壓）高于外部壓力（靜壓）。潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力，潔凈度級別高的空間壓力要高于相鄰的潔凈度級別低的空間壓力，壓力差的維持依靠新風(fēng)量。
- 氣流速度規(guī)定：亂流潔凈室主要用換氣次數(shù)概念，送風(fēng)口出口氣流速度不宜太大，吹過水平面的氣流速度一般不宜大于 0.2m/s；單向流潔凈室截面上的速度是重要指標，我國規(guī)定垂直平行流（層流）潔凈室≥0.25m/s，水平平行流（層流）潔凈室≥0.35m/s。
- 噪聲控制：衡量潔凈室噪聲的主要指標包括煩惱的效應(yīng)、對工作效率的影響、對綜合通訊的干擾，一般采用 A 聲級來評價，噪聲標準嚴于保護健康的標準，以保障操作正常進行。
- 照明要求：包括一般照明、局部照明和混合照明，其中一般照明的照度按《潔凈廠房設(shè)計規(guī)范》應(yīng)占總照度的 10%-15%，但不低于 150LX。
- 防靜電：潔凈室內(nèi)因靜電可導(dǎo)致多種事故，如靜電電擊、放電電流破壞半導(dǎo)體元件、放電產(chǎn)生的電磁波干擾電子儀器、放電發(fā)光導(dǎo)致感光破壞、靜電的力學(xué)現(xiàn)象導(dǎo)致粉塵堵塞等。靜電事故主要源于靜電的產(chǎn)生和積累，氣流流動、人體與衣服摩擦等多種因素都可能產(chǎn)生靜電。

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凈化工程的原理要求有哪些

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